เอ็กไซเมอร์เลเซอร์

เอ็กไซเมอร์เลเซอร์

เป็นเลเซอร์ชนิดก๊าซ โดยก๊าซที่บรรจุอยู่าภายในระบบนั้นจะมีความดันอยู่ในช่วงไม่เกิน 5 atm ซึ่งก๊าซที่ใช้เป็นการผสมกันของ rare gas เช่น Ar , Kr, Xe ปริมาณ 0.1 – 0.3% กับก๊าซฮาโลเจน เช่น F, Cl, Br, I ปริมาณ 2 – 10% โดยก๊าซทั้งสองชนิดจะมีอยู่ในระบบเพียงน้อยนิดเมื่อเทียบกับปริมาตรของก๊าซทั้งหมดภายในระบบ ส่วนที่เหลือคือ buffer gas เช่น He แต่ buffer gas จะไม่ใช้เป็นตัวกลางของการเกิดแสงเลเซอร์

เอ็กไซเมอร์เลเซอร์เกิดขึ้นจากการปลดปล่อยพลังงานของโมเลกุล เมื่อมีการเปลี่ยนระดับพลังงานระหว่างสถานะกระตุ้นและสถานะพื้น คำว่า Eximer มาจากคำว่า Excited Dimer (อ่านว่า ไดเมอร์) ซึ่งเอ็กไซเมอร์เลเซอร์ที่ใช้ส่วนใหญ่จะใช้ก๊าซผสมระหว่าง rare gas ที่มีมวลโมเลกุลสูง กับก๊าซฮาโลเจน เช่น
ArCl ให้แสงความยาวคลื่น 175 นาโนเมตร
XeF ให้ความยาวคลื่น 175 นาโนเมตร
ArF ให้ความยาวคลื่น 193 นาโนเมตร
KrF ให้ความยาวคลื่น 249 นาโนเมตร
XeCl ให้ความยาวคลื่น 308 นาโนเมตร

pumping source ที่ใช้ได้มาจากพลังงานจากปฏิกิริยาเคมี ระหว่าง rare gas กับก๊าซฮาโลเจน เรียกวิธี pump แบบนี้ว่า chemical pumping เมื่อต้องการให้เกิดแสงเลเซอร์ ก๊าซสองชนิดจะถูกนำมาผสมกัน นั่นคือก๊าซทั้งสองแยกกันอยู่ในตอนแรก

เอ็กไซเมอร์เลเซอร์ให้แสงที่เป็นแบบพัลส์ออกมา สามารถให้พลังงานตั้งแต่ระดับ มิลลิจูล ไปจนถึงระดับ 100 จูลต่อพัลส์ ในความถี่สูงถึงระดับ 1 – 2 กิโลเฮิรตซ์ และสามารถให้กำลังงานเฉลี่ยได้สูงถึง 500 วัตต์

เอ็กไซเมอร์เลเซอร์เป็นอุปกรณ์กำเนิดแสงเหนือม่วงแบบอาพันธ์ (coherent uv) และ deep uv ให้ลำแสงที่มีขนาดเล็กมาก สามารถนำไปประยุกต์ใช้งานในด้านต่าง ๆ อย่างกว้างขวางทั้งทางการแพทย์ (เลซิค) และทางอุตสาหกรรม โดยส่วนใหญ่จะนำไปใช้กับวัสดุที่มีความแข็งแรงของโครงสร้างโมเลกุลสูง เช่น เพชร หรือสารจำพวกโพลีเมอร์

เพิ่มเติม : http://www.phu.co.th/index.php